真空爐內的溫度分布

  石墨加熱元件在加熱室兩側的布置特別適用于高真空爐。在高真空環境下，兩側加熱元件產生的熱輻射區域可以均勻加熱工件。當爐溫為400-1300℃時，加熱區各點溫差可達5 K..20世紀60年代以前，溫度控制是熱處理技術的主要問題之一。后來因為電子溫控技術的出現，這個問題得到了解決。目前，從溫度分布的角度來看，熱區溫度分布的準確性是一個重要的問題。我們幾乎總是優先考慮可以確保結構中溫度均勻的熱區。由于某種原因，隨著保溫時間的延長，熱區暫時的溫度不均勻會消失。相反，溫度較高或較低的熱區將在整個熱處理過程中產生有害影響。我們將介紹在這方面有效的真空爐結構，其溫度梯度低于0.01K/cm。真空爐除了溫度均勻外，還有其他優點。能耗少，完全避免了有毒材料的使用，加熱和材料放氣產生的煙塵對環境的污染，完美解決了材料表面氧化或扭曲的問題。由于這些優點，真空爐已成為當前熱處理工藝中不可缺少的條件。真空中的傳熱從傳熱的角度來看，真空起著雙重作用。